PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机（加热功能)Novascan

PSDP-UVT 内置加热盘系列：

PSDP-UVT 新增加一个加热盘，将PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能的分解有机分子物质。带PID反馈回路的数字控制器能精准保持热盘的温度，温度范围可达150摄氏度。

选项：OES-1000D臭氧消除系统 （内置真空泵和催化型臭氧中和器，用于清洗完成后的臭氧消除）

 数字控制加热盘可以设置高达150摄氏度
 可调节托盘高度
 安全开关防止使用者被紫外光照射
 可编程数字控制器
 数字显示倒计时
 可执行暂停和终止指令
 内部存储器用于记录之前的参数设置
 高利用率和高灵活性
 室温操作,使用空气或是氧气

一般特性：

电 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。

样品高度：所有系统都配置可调节高度的样品台，调节灯与样品之间的间距，并带位置锁定，标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。

UV格栅灯：产生臭氧的低压汞格栅灯，带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。

UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。

样品放置：打开清洗腔上盖，露出样品台，允许360度装入样品。

安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。

进出气口：标准配置2个气接口，可选更多。

真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。

温度范围：高达150摄氏度。

臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）

工作原理 ：

PSDP-UVT系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子（污染物）。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解，样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物，然后形成CO2和H2O蒸气，同时也将臭氧分子转变成氧分子。


典型应用包括：

•表面的原子级清洗
•聚合物粘接
•去除有机分子
•释放捕获的无机分子
•微流控制作
•微米/纳米构型
•紫外光固化
•表面化学改性
•表面杀菌
•表面氧化
•金属粘结准备……

型号及尺寸：