小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术,采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵,清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,可短时间内*清洗掉有机污染物,清洗程度可达到分子级。另外,其样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻。此外,其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
技术参数
主要特点 | - 采用气体作为清洗介质,避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
- 可短时间内*清洗掉有机污染物。
- 清洗程度可达到分子级。
- 可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
- 清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。
- 样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻。
- 广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
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参数 | - 电压:AC220V 10A
- 消耗功率:<500W(包括真空泵)
- RF电源:输出功率100W,输出频率13.56MHz
- 腔体:Φ190mm×98mm
- 石英管:Φ180mm×55mm,壁厚7mm
- 内腔:Φ165mm×55mm
- 清洗电极:Φ120mm
- 样品台:Φ150mm,有效尺寸Φ140mm
- 样品台与电极间距:15mm-50mm可调
- 抽气管:Φ12mm
- 极限真空度:0.1Pa
- 工作真空度:60Pa-500Pa
- 气路数量:2路(选装)
- 流量控制器数量:1、2
- 流量显示仪:2通道
- 气路接口:Φ6mm
- 加热样品台:Φ140mm,加热样品温度RT-600℃±1℃(选装)
- 冷却水压力:0.2KPa-0.4KPa
- 工作环境:温度5℃-35℃,湿度<80%(相对湿度)不结露,海拔高度0-2000m
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产品规格 | - 尺寸:245mm×235mm×460mm(不含真空泵)
- 重量:20kg(不含真空泵)
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可选配置 | - 加热样品台
- 流量控制器(量程10、50、100,多可增加2个通道)
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