紫外臭氧清洗机

UV紫外臭氧清洗过程提供一种简单，经济，快速获得超洁净的表面，去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝*等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗过程几分钟就可以啦。
紫外臭氧清洗可以去除：
皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。
怎样说是“超”洁净？
接触角测量方法4－5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试，在冷凝和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。通常情况下，使用清洗或是超声清洗工序后，清洁关键表面认为完成。紫外臭氧清洗提供一种新的清洗尺度。在传统清洗工序后加入紫外清洗的应用，产品的性能和可靠性的提升不断的证明这种新的清洗尺度的价值。
紫外臭氧清洗工作原理：
UVOCS清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。

*注1：白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄。这种现象是由于基材吸收UV能量， 而不是一种涂层。这种氧化铝在加热情况下会转化为他原来的颜色。
**注2：清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用，元件温度可以视为室温。

典型应用包括：
•表面的原子级清洗
•聚合物粘接
•去除有机分子
•释放捕获的无机分子
•微流控制作
•微米/纳米构型
•紫外光固化
•表面化学改性
•表面杀菌
•表面氧化
•金属粘结准备